苏大维格：公司激光直写光刻机具体应用包括柔性电子、MEMS 以及特定领域

集微网消息，3 月 21 日，有投资者在投资者互动平台提问：苏大维格官网显示，iGrapher 系列设备已用于 4 寸～8 寸 MEMS 制备、17 寸-65 寸精密电路制备的工业应用。请问贵公司的光刻设备能否用于精密电路和 MEMS 的大规模制备? 有没有提供给 PCB 或者 MEMS 制造厂商？

苏大维格表示，公司激光直写光刻机具体应用包括柔性电子、MEMS 以及特定领域半导体比如半导体功率芯片等产品的研发与制造。公司光刻设备整机除自用及向国内外高校及科研院所销售外，2021 年开始向企业拓展，并成功实现了对半导体领域企业的销售；在光刻机关键器件方面，公司向上海微电子提供了其半导体领域投影式光刻机用的定位光栅部件。

资料显示，苏大维格主要从事微纳关键技术、高端智能制造设备和功能材料的创新应用，是首批认证的国家高新技术企业。其光刻仪器事业部研制了多种用于 MEMS 芯片的光刻设备 MiScan200（8”~12”）、微纳光学的 MicroLab（4”~8”）和超表面、裸眼 3D 显示、光电子器件研究的纳米光刻设备 NanoCrystal（8”~32”）。