捷佳伟创：国内首台完全自主研发的电子级硅芯清洗设备即将交付客户

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IT之家 9 月 11 日消息，据捷佳伟创官方公众号报道，常州捷佳创精密机械有限公司国内首台完全自主研发的电子级硅芯清洗设备目前已经成功下线，将于近日部署至某合作客户处。

据悉，此款硅芯清洗设备是一款用于硅料端制程的硅芯的腐蚀清洗设备，用于清洗硅芯表面有机物、氧化物和金属离子，采用碱洗、酸洗、超声、机能水等工艺，产品可用于高纯光伏硅片和半导体硅片的生产制程，清洗后总表金属≤0.2ppbm。

▲ 图源 捷佳伟创官方公众号IT之家从官方公众号得知，该产品的主要技术特点如下：

材料升级

与德国 Rochling 合力开发耐氧化，耐高温材料用于槽体制作。

工艺升级

结合国外成熟工艺与机能水清洗工艺，清洗能力更强。

内部洁净升级

内部流场的全新设计，搭配更高效 FFU、抽风通道及酸碱隔离装置，内部更洁净。

结构升级

底部龙门式 Robot 设计，运载更稳定，运动部件产生的 Particle 可更快排出设备外。

硅芯载体优化

硅芯载体优化，更稳定的结构，更小的接触面积配合旋转机构，清洗更彻底。

制作升级

槽体及槽内零件多采用折弯制作工艺，减少犄角疙瘩及焊接内的藏污纳垢。

装配升级

全设备设置在千级洁净室生产。

官方表示，长期以来，电子级硅芯硅料清洗设备市场份额都被外国厂商占有，捷佳伟创作为太阳能光伏电池设备行业领军企业及半导体设备制造商，将“坚持以研发制造一流专业设备，推动国内相关行业发展为己任”。

捷佳伟创宣称，目前官方已实现表金属 0.5ppbw 以上等级的电子级硅料批量出货，2024 第一季度将推出 0.1ppbw 以下的产品。

捷佳伟创声称，未来公司将继续秉承“技术领先，管理领先，服务领先”的发展战略，继续精进光伏电池生产设备及半导体湿法清洗设备研发，并向更广阔的产品领域和更丰富的技术路线继续发展，为客户提供技术领先、质量过硬、服务周到的产品。

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