导语：受到华为青睐的科益虹源科创属性如何？
华为投资芯片光刻机公司。Sixlens数据显示，2021年6月2日，中科院旗下北京科益虹源光电技术有限公司获得投资，投资方为华为旗下哈勃科技投资有限公司。
科益虹源是一家准分子激光器研发生产商，是国家02重大专项“准分子激光技术”成果的产业化载体，其控股股东是中科院微电子所，主要业务就是光刻机中的三大核心技术之一的光源系统，是国内第一、全球第三的193nm ArF准分子激光器企业。
Sixlens数据显示，科益虹源持续在准分子激光器领域进行布局。2018年科益虹源自主设计开发的国内首台高能准分子激光器出货，打破了国外厂商的长期垄断。
光刻机被誉为半导体工业皇冠上的明珠，在制造设备投资额中单项占比高达23%，近五年发明专利申请公开量占半导体设备发明专利申请公开量总数的14.1%
光刻机被誉为半导体工业皇冠上的明珠，是前道工艺七大设备之首（光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备），在制造设备投资额中单项占比高达23%，涉及精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术。光刻机的指标与性能决定了芯片生产的制程，芯片的制程则直接决定了芯片的集成度、功耗与性能。
光刻机一般可以分为无掩模光刻机和有掩模光刻机。光刻工艺流程较多，占晶圆制造耗时的40％－50％，光刻技术也在不断的发展，自光刻机面世以来，光刻设备已经进行了四次重大的革新，光刻设备所用的光源，也从最初的g－line，i－line历经KrF、ArF发展到了如今的EUV。
Sixlens数据显示，在半导体设备领域，光刻机的近五年发明专利申请公开量27339件，占半导体设备发明专利申请公开量总数的14.1%；发明工程师12743人，占半导体设备发明工程师总数的7.6%；创新企业数量1559个，占半导体设备创新企业总数的6.7%。
全球光刻机市场三足鼎立，我国企业在光刻机各环节均有布局。
全球光刻机市场的主要企业为ASML、尼康（Nikon）和佳能（Canon）三家，从光刻机销售额来看，2019年三家企业的合计市场份额就占到了全球光刻机市场的90％以上。其中ASML由于其技术领先，垄断了第五代光刻机（EUV光刻机），独占75％的市场份额，Nikon与Canon分别占据13％和6％的市场份额。
近年来，在国家政策的扶持以及一批龙头企业的带领下，我国光刻机技术也开始了飞速的发展，但仍然与国际巨头存在差距。
在光刻机核心组件，我国的典型企业包括国科精密（曝光系统）、科益虹源（DUV/EUV 光源）、启尔机电（浸没式系统）、华卓精科（双工件台）、福晶科技(002222,股吧)（光学晶体）。
在光刻机材料领域，光刻胶领域的典型企业包括南大光电(300346,股吧)、北京科华、雅克科技(002409,股吧)、晶瑞股份(300655,股吧)、容大感光(300576,股吧)、飞凯材料(300398,股吧)、上海新阳(300236,股吧)等；光刻气体领域的典型企业包括华特气体、凯美特气(002549,股吧)等；配套光罩领域的典型企业包括清溢光电、路维光电、菲利华(300395,股吧)；配套设备的典型企业包括芯源微、精测电子(300567,股吧)、赛腾股份(603283,股吧)等。
设计与整机集成领域的典型企业包括上海微电子、芯硕半导体、影速半导体等。
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（董云龙 ）
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